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使用刻蝕液①或②時(shí)，把要蝕刻的玻璃洗凈、晾干，比較好用電爐或紅外線燈將玻璃稍微加熱，以便于蝕刻。蝕刻時(shí)，用毛筆蘸蝕刻液書寫文字或圖案于玻璃上，2 min蝕刻工作即完成。制作毛玻璃時(shí)，將玻璃洗凈、晾干，用刷子均勻涂上腐蝕液即可。 酸性氯化銅蝕刻液1) 蝕刻機(jī)理：...

產(chǎn)品的開發(fā)周期：針對(duì)金屬蝕刻加工工藝的新產(chǎn)品開發(fā)可以更靈活，費(fèi)用低。設(shè)計(jì)人員在新品開發(fā)時(shí)，可以提前和我們溝通，這樣可以經(jīng)過雙方的討論，來規(guī)避一些設(shè)計(jì)上的缺陷。比如：設(shè)計(jì)的材料厚度，設(shè)計(jì)的加工管控精度，可以蝕刻的**小孔，**小的縫隙等。金屬蝕刻加工可實(shí)現(xiàn)的一些...

蝕刻液根據(jù)材料、工藝要求不同，可以分為很多種，比如AL鋁蝕刻液，銅蝕刻液、ITO蝕刻液、鈦蝕刻液、鉻蝕刻液、銀蝕刻液，鎳蝕刻液、鎳鉻硅蝕刻液、金蝕刻液、鎳鈀金蝕刻液，鋁蝕刻不傷ITO、銅蝕刻不傷ITO、鈦蝕刻不銅鎳等等。圣天邁專注電子精細(xì)化工，表面處理等特...

蝕刻液-溫度對(duì)蝕刻速率的影響：隨著溫度的升高，蝕刻速率加快，但是溫度也不宜過高，一般控制在45~55℃范圍內(nèi)。溫度太高會(huì)引起HCl過多地?fù)]發(fā)，造成溶液組分比例失調(diào)。另外，如果蝕刻液溫度過高，某些抗蝕層會(huì)被損壞。堿性氯化銅蝕刻液1) 蝕刻機(jī)理： CuCl2+4N...

蝕刻液，是一種銅版畫雕刻用原料。通過侵蝕材料的特性來進(jìn)行雕刻的一種液體。從理論上講，凡能氧化銅而生成可溶性銅鹽的試劑，都可以用來蝕刻敷銅箔板，但權(quán)衡對(duì)抗蝕層的破壞情況、蝕刻速度，蝕刻系數(shù)、溶銅容量、溶液再生及銅的回收、環(huán)境保護(hù)及經(jīng)濟(jì)效果等方面已經(jīng)使用的蝕刻液類...

不同材料對(duì)三氯化鐵蝕刻液濃度的要求詳解氯化鐵蝕刻液用作凈水劑、蝕刻劑、媒染劑、銀銅礦浸出劑、玻璃器皿熱著色劑、氯苯二氯乙烷有機(jī)合成催化劑等。也可用作鐵鹽原料，如磷酸鐵、鉻鐵礦等。此外，它還可以提高混凝土強(qiáng)度、耐腐蝕性和防水滲透性。1、鋁材料，三氯化鐵蝕刻液濃度...

使用刻蝕液①或②時(shí)，把要蝕刻的玻璃洗凈、晾干，比較好用電爐或紅外線燈將玻璃稍微加熱，以便于蝕刻。蝕刻時(shí)，用毛筆蘸蝕刻液書寫文字或圖案于玻璃上，2 min蝕刻工作即完成。制作毛玻璃時(shí)，將玻璃洗凈、晾干，用刷子均勻涂上腐蝕液即可。 酸性氯化銅蝕刻液1) 蝕刻機(jī)理：...

蝕刻液-溶液中的Cu2+含量對(duì)蝕刻速率是否有一定的影響。一般情況下，溶液中Cu2+濃度低于2mol/L時(shí)，蝕刻速率較低；在2mol/L時(shí)速率較高。隨著蝕刻反應(yīng)的不斷進(jìn)行，蝕刻液中銅的含量會(huì)逐漸增加。當(dāng)銅含量增加到一定濃度時(shí)，蝕刻速率就會(huì)下降。為了保持蝕刻液具有...

在生產(chǎn)過程中通過補(bǔ)加鹽酸+空氣、**酸鈉、鹽酸+雙氧水和少量的添加劑來實(shí)現(xiàn)線路板板的連續(xù)蝕刻生產(chǎn)。1)原料①氟化銨：分子式為NH4F，白色晶體，易潮解，易溶于水和甲醇，較難溶于乙醇，能升華，在蝕刻液中起腐蝕作用，一般選用工業(yè)產(chǎn)品。②草酸：在蝕刻液中作還原劑使用...

退膜→水洗→去膜水洗→中壓水洗→吸干→蝕刻→子液清洗→水洗→吸干→退錫→水洗→烘干→接板3鎳金板工藝流程退膜→水洗→去膜水洗→中壓水洗→吸干→蝕刻→子液清洗→水洗→吸干→酸洗→水洗→烘干→接板4簡(jiǎn)單工藝原理蝕銅反應(yīng)：在蝕刻過程中，板面上的銅被蝕刻液中的[Cu(...

金屬的腐蝕生銹給社會(huì)發(fā)展造成了巨大的經(jīng)濟(jì)損失，還給人們的日常生產(chǎn)生活帶來較大的不便和潛在的直接或間接性的環(huán)境污染，安全隱患。因此對(duì)金屬基材的防銹始終是人們關(guān)注的焦點(diǎn)。IC除銹劑的優(yōu)點(diǎn)防銹的方法中比較簡(jiǎn)單有效的就是使用IC除銹劑。IC除銹劑的優(yōu)點(diǎn)在于超級(jí)高效的合...

翻新處理過程中，清洗是比較重要的環(huán)節(jié)，由于電路板與IC芯片等元器件回收來源復(fù)雜，表面污染物差異很大，除了常見的三防漆、松香殘留、油脂、導(dǎo)電膠、導(dǎo)熱膏、灰塵、設(shè)備長(zhǎng)期運(yùn)行產(chǎn)生的積碳等，還會(huì)混有其他生活和工業(yè)垃圾所帶來的各種污染物。目前常用的主流環(huán)保清洗方法有以碳...

IC封裝藥液清洗晶圓是以整個(gè)批次或單一晶圓，藉由化學(xué)品的浸泡或噴灑來去除臟污，并用超純水來洗滌雜質(zhì)，主要是去除晶片表面所有的污染物，如微塵粒(PartICle)、有機(jī)物(OrganIC)、無機(jī)物、金屬離子等雜質(zhì)。在超大型集成電路(ULSI)制程中，晶圓清洗技術(shù)...

IC清潔劑水清洗技術(shù)是今后清洗技術(shù)的發(fā)展方向，須設(shè)置純凈水源和排放水處理車間。IC清潔劑以水作為清洗介質(zhì)，并在水中添加表面活性劑、助劑、緩蝕劑、螯合劑等形成一系列以水為基的清洗劑。可以除去水溶劑和非極性污染物。其清洗工藝特點(diǎn)是：安全性好，不燃燒、不炸裂，基本無...

IC封裝藥液由于連續(xù)處理過程中濃度不斷變化，要定期測(cè)定PH值，確定IC-502清洗劑含量濃度，保持在規(guī)定的濃度范圍內(nèi)，及時(shí)補(bǔ)充添加，以確保清洗效果。工件油污清洗干凈后用清水沖洗，水洗后的工件再做后續(xù)處理。工件如需防銹，油污清洗干凈后直接烘干，不需要水洗，用水沖...

IC除銹劑可以在不破壞基材表面外觀的前提下實(shí)現(xiàn)防銹功能，而且在某些特定條件下還可以增加表面的光亮度。IC除銹劑的使用工藝簡(jiǎn)單，配方中的物質(zhì)種類容易獲得，并且制備成本低，適用范圍較廣。從解決問題的角度出發(fā)，未雨綢繆，把問題遏殺在萌芽階段是解決問題的比較好途徑和手...

IC清潔劑帶電清洗設(shè)備、絕緣液，電子精密清洗、光學(xué)清洗、脫水清洗。ThermalShock（冷熱沖擊測(cè)試液），適合低溫槽應(yīng)用。熱傳導(dǎo)液、冷卻介質(zhì)。干燥脫水劑。溶劑、噴霧罐推進(jìn)劑。溶媒稀釋劑、潤(rùn)滑劑稀釋劑、特殊用途的溶劑等。主要應(yīng)用場(chǎng)合：可用于各類數(shù)據(jù)處理電子設(shè)...

IC除銹劑不傷害皮膚，長(zhǎng)期接觸時(shí)，應(yīng)采取適當(dāng)?shù)膭趧?dòng)保護(hù)措施(眼鏡、橡膠手套、勞動(dòng)防護(hù)服、膠鞋)，確保操作員的安全。IC除銹劑不能接觸眼睛，如果意外接觸液體，必須立即用水沖洗或接受療養(yǎng)。請(qǐng)不要誤食IC除銹劑。IC除銹劑的使用方法：根據(jù)被除銹的材質(zhì)不同，除銹時(shí)的要...

半水清洗主要采用有機(jī)溶劑和去離子水，再加上一定量的活性劑、添加劑所組成的清洗劑。該類清洗介于溶劑清洗和水清洗之間。這些IC清潔劑都屬于有機(jī)溶劑，屬于可燃性溶劑，閃點(diǎn)比較高，毒性比較低，使用上比較安全，但是須用水進(jìn)行漂洗，然后進(jìn)行烘干。有些清洗劑中添加5%~20...

IC封裝藥液油性封閉劑：閃點(diǎn)（40度）相比有機(jī)封閉劑低，不可兌水使用，使用安全，環(huán)保，無鉻，無排放；使用前需干燥新產(chǎn)品；使用壽命長(zhǎng)，可循環(huán)使用，無需更換；產(chǎn)品封閉處理后，表面為全干性，少量油感，不影響產(chǎn)品后期的導(dǎo)電與焊接性能，耐腐蝕性能提高5-40倍。具有光澤...

IC除銹劑使用方法及注意事項(xiàng)：浸泡法：優(yōu)點(diǎn)是可以在表面形成均勻的防銹膜，保證產(chǎn)品的完全覆蓋，成本較低，缺點(diǎn)是只適用于小型產(chǎn)品，使用低粘度的防銹油，浸泡槽必須有很好排水系統(tǒng)。噴霧法：適用于大型且結(jié)構(gòu)復(fù)雜的產(chǎn)品，必須使用高效能的噴霧器，容易出現(xiàn)產(chǎn)品未能完全形成防銹...

IC封裝藥液油性封閉劑：閃點(diǎn)（40度）相比有機(jī)封閉劑低，不可兌水使用，使用安全，環(huán)保，無鉻，無排放；使用前需干燥新產(chǎn)品；使用壽命長(zhǎng)，可循環(huán)使用，無需更換；產(chǎn)品封閉處理后，表面為全干性，少量油感，不影響產(chǎn)品后期的導(dǎo)電與焊接性能，耐腐蝕性能提高5-40倍。具有光澤...

IC除銹劑使用方法及注意事項(xiàng)：浸泡法：優(yōu)點(diǎn)是可以在表面形成均勻的防銹膜，保證產(chǎn)品的完全覆蓋，成本較低，缺點(diǎn)是只適用于小型產(chǎn)品，使用低粘度的防銹油，浸泡槽必須有很好排水系統(tǒng)。噴霧法：適用于大型且結(jié)構(gòu)復(fù)雜的產(chǎn)品，必須使用高效能的噴霧器，容易出現(xiàn)產(chǎn)品未能完全形成防銹...

翻新工藝中可根據(jù)回收物情況不同設(shè)計(jì)多次清洗環(huán)節(jié)。在污染情況不是很嚴(yán)重的情況下，需在工藝設(shè)計(jì)清洗環(huán)節(jié)即可，去除自有污染物及翻新工藝污染物（如維修補(bǔ)焊、打磨、拋光工藝后的污染物殘留）。如回收來的線路板或芯片污染嚴(yán)重，需根據(jù)污染物組成設(shè)計(jì)第1次粗洗，去除大部分污染物...

因此在制作過程中除了要排除外界的污染源外，集成電路制造步驟如高溫?cái)U(kuò)散、離子植入前等均需要進(jìn)行濕法清洗或干法清洗工作。干、濕法清洗工作是在不破壞晶圓表面特性及電特性的前提下，有效地使用化學(xué)溶液或氣體去除殘留在晶圓上之微塵、金屬離子及有機(jī)物之雜質(zhì)。污染物雜質(zhì)的分類...

IC清潔劑不燃燒、不炸裂，使用安全；清洗劑可以蒸餾回收，反復(fù)使用，比較經(jīng)濟(jì)；清洗工藝流程也與ODS清洗劑相同。烴類清洗工藝特點(diǎn)：烴類即碳?xì)浠衔?，過去把通過蒸餾原油而得的汽油、煤油作為清洗劑使用。烴類隨碳數(shù)的增加而閃點(diǎn)提高，增加了安全性，但是干燥性不好；干燥性...

使用IC除銹劑時(shí)應(yīng)注意些什么？IC除銹劑的儲(chǔ)存，請(qǐng)放在陰涼處，并置于兒童接觸不到的地方。表面處理后會(huì)伴隨一層鈍化膜，厚度約為1微米，是一種由無機(jī)酸制成的產(chǎn)品與鋼鐵IC除銹劑的反應(yīng)，可起到鋼的保護(hù)作用。IC除銹劑使用一段時(shí)間后應(yīng)浮在泡沫表面并及時(shí)沉淀，并進(jìn)行濃度...

請(qǐng)不要誤食IC除銹劑，存放IC除銹劑時(shí)，在室溫下存放，避免太陽曝曬，避免兒童接觸。被除銹的材質(zhì)不同，除銹時(shí)的要求不同，IC除銹劑的使用方法也不同，必須按照正確的使用要求，才能達(dá)到較佳的除銹效果，下面帶大家了解使用IC除銹劑怎樣手動(dòng)除銹?將水和IC除銹劑按照2比...

IC封裝藥液在酸性、中性、堿性條件下均能溶解透明，且長(zhǎng)期穩(wěn)定。與磷酸酯類物質(zhì)相比，本劑具有好于磷酸酯類物質(zhì)”三倍以上的防腐蝕效果?！傲姿狨ヮ愇镔|(zhì)”含磷，易生菌，容易產(chǎn)生大量泡沫。而本劑不含磷、不易生菌、無泡。對(duì)黑色金屬和其它有色金屬都有輔助的防腐蝕作用；無毒、...

IC封裝藥液在酸性、中性、堿性條件下均能溶解透明，且長(zhǎng)期穩(wěn)定。與磷酸酯類物質(zhì)相比，本劑具有好于磷酸酯類物質(zhì)”三倍以上的防腐蝕效果。“磷酸酯類物質(zhì)”含磷，易生菌，容易產(chǎn)生大量泡沫。而本劑不含磷、不易生菌、無泡。對(duì)黑色金屬和其它有色金屬都有輔助的防腐蝕作用；無毒、...