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納米壓印光刻膠 微納光學(xué)器件制造：制作衍射光學(xué)元件、微透鏡陣列等微納光學(xué)器件時，納米壓印光刻膠可實現(xiàn)高精度的微納結(jié)構(gòu)復(fù)制。通過納米壓印技術(shù)，將模板上的微納圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上，再經(jīng)過后續(xù)處理，可制造出具有特定光學(xué)性能的微納光學(xué)器件，應(yīng)用于光通信...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司的產(chǎn)品體系豐富且功能強大。 在光刻膠領(lǐng)域，芯片光刻膠為芯片制造中的精細光刻環(huán)節(jié)提供關(guān)鍵支持，確保芯片線路的精細刻畫； 納米壓印光刻膠適用于微納加工，助力制造超精細的微納結(jié)構(gòu)； LCD 光刻膠則滿足液晶顯示面板生產(chǎn)...

光刻膠的工作原理： 1. 涂覆與曝光：在基底（如硅片、玻璃、聚合物）表面均勻涂覆光刻膠，通過掩膜（或直接電子束掃描）對特定區(qū)域曝光。 2. 化學(xué)變化：曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)（正性膠曝光后溶解，負性膠曝光后交聯(lián)不溶）。...

差異化競爭策略 在高級市場（如ArF浸沒式光刻膠），吉田半導(dǎo)體采取跟隨式創(chuàng)新，通過優(yōu)化現(xiàn)有配方（如提高酸擴散抑制效率）逐步縮小與國際巨頭的差距；在中低端市場（如PCB光刻膠），則憑借性價比優(yōu)勢（價格較進口產(chǎn)品低20%-30%）快速搶占份額，2023...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司，坐落于松山湖經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)，是半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的一顆璀璨明珠。公司注冊資本 2000 萬元，專注于半導(dǎo)體材料的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售，是國家高新技術(shù)企業(yè)、廣東省專精特新企業(yè)以及廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)。 強大的產(chǎn)品陣容：吉田半導(dǎo)體產(chǎn)...

吉田半導(dǎo)體 YK-300 正性光刻膠：半導(dǎo)體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性，成為 45nm 及以上制程的理想選擇。 YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于半導(dǎo)體芯片前道工藝...

客戶需求導(dǎo)向 支持特殊工藝需求定制，例如為客戶開發(fā)光刻膠配方，提供從材料選擇到工藝優(yōu)化的全流程技術(shù)支持，尤其在中小批量訂單中靈活性優(yōu)勢。 快速交付與售后支持 作為國內(nèi)廠商，吉田半導(dǎo)體依托松山湖產(chǎn)業(yè)集群資源，交貨周期較...

作為中國半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè)，吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終以自研自產(chǎn)為戰(zhàn)略，通過 23 年技術(shù)沉淀與持續(xù)創(chuàng)新，成功突破多項 “卡脖子” 技術(shù)，構(gòu)建起從原材料到成品的全鏈條國產(chǎn)化能力。其自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品已覆蓋芯片制造、顯示面板、精密電子等領(lǐng)域，為國內(nèi)半導(dǎo)體...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于 2023 年，總部位于東莞松山湖經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)，注冊資本 2000 萬元。作為高新企業(yè)和廣東省專精特新企業(yè)，公司專注于半導(dǎo)體材料的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售，產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠、LCD 光刻膠、納米壓印光刻膠、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶...

主要原材料“卡脖子”：從樹脂到光酸的依賴 樹脂與光酸的技術(shù)斷層 光刻膠成本中50%-60%來自樹脂，而國內(nèi)KrF/ArF光刻膠樹脂的單體國產(chǎn)化率不足10%。例如，日本信越化學(xué)的KrF樹脂純度達99.999%，金屬雜質(zhì)含量低于1...

制版光刻膠應(yīng)用場景：印刷電路板（FPC）、觸摸屏（TP）的掩膜版制作，以及光學(xué)元件（如衍射光柵）的微納加工。特點：高分辨率與耐化學(xué)性，確保模板的長期使用壽命。 水性光刻膠（JT-1200）應(yīng)用場景：環(huán)保要求高的電子元件（如醫(yī)療設(shè)備、汽車電子）的制造，以及柔...

全品類覆蓋與定制化能力 吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠等全品類，適用于半導(dǎo)體、顯示面板、MEMS等多個領(lǐng)域。例如，其LCD正性光刻膠YK-200和水油光刻膠JT-2001可滿足0.45μm及以上線寬需求，支持客戶...

厚板光刻膠 電路板制造：在制作對線路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時，厚板光刻膠可確保線路的精細度和穩(wěn)定性，比如汽車電子、工業(yè)控制等領(lǐng)域的電路板，能承受復(fù)雜環(huán)境和大電流、高電壓等工況。 功率器件制造：像絕緣柵雙極晶體管（IGBT）...

不同光刻膠類型的適用場景對比 類型 波長范圍 分辨率 典型應(yīng)用產(chǎn)品 G線/i線光刻膠 436/365nm ≥1μm PCB、LCD黑色矩陣 吉田半導(dǎo)體JT-100系列 KrF光刻膠 248nm 0.25-1μm 28nm以上芯片...

市場拓展 ? 短期目標：2025年前實現(xiàn)LCD光刻膠國內(nèi)市占率10%，半導(dǎo)體負性膠進入中芯國際、華虹供應(yīng)鏈，納米壓印膠完成臺積電驗證。 ? 長期愿景：成為全球的半導(dǎo)體材料方案提供商，2030年芯片光刻膠營收占比超40...

公司遵循國際質(zhì)量管理標準，通過 ISO9001:2008 認證，并在生產(chǎn)過程中執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理，從原料入庫到成品出庫實現(xiàn)全流程監(jiān)控。以錫膏產(chǎn)品為例，其無鹵無鉛配方符合環(huán)保要求，同時具備低飛濺、高潤濕性等特點，適用于電子產(chǎn)品組裝。此外，公司建立了行業(yè)標準...

吉田半導(dǎo)體助力區(qū)域經(jīng)濟，構(gòu)建半導(dǎo)體材料生態(tài)圈，發(fā)揮企業(yè)作用，吉田半導(dǎo)體聯(lián)合上下游資源，推動?xùn)|莞松山湖半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新。 作為松山湖產(chǎn)業(yè)集群重要成員，吉田半導(dǎo)體聯(lián)合光刻機制造商、光電子企業(yè)共建材料生態(tài)圈。公司通過技術(shù)輸出與資源共享，幫助本地企業(yè)提升工藝水平，促...

吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等領(lǐng)域，通過差異化技術(shù)（如納米壓印、厚膜工藝）和環(huán)保特性（水性配方），滿足從傳統(tǒng)電子到新興領(lǐng)域（如第三代半導(dǎo)體、Mini LED）的多樣化需求。其產(chǎn)品不僅支持高精度、高可靠性的制造工藝，還通過材料...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領(lǐng)域。 厚板光刻膠 JT - 3001：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好。符合歐盟 ROHS 標準，保質(zhì)期 1 年，適用于對光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場景，如一些特...

納米電子器件制造 ? 半導(dǎo)體芯片：在22nm以下制程中，EUV光刻膠（分辨率≤10nm）用于制備晶體管柵極、納米導(dǎo)線等關(guān)鍵結(jié)構(gòu)，實現(xiàn)芯片集成度提升（如3nm制程的FinFET/GAA晶體管）。 ? 二維材料器件：在石墨烯、二...

人才與生態(tài)：跨學(xué)科團隊的“青黃不接” 前段人才的結(jié)構(gòu)性短缺 光刻膠研發(fā)需材料化學(xué)、半導(dǎo)體工藝、分析檢測等多領(lǐng)域。國內(nèi)高校相關(guān)專業(yè)畢業(yè)生30%進入光刻膠行業(yè)，且缺乏具有10年以上經(jīng)驗的工程師。日本企業(yè)通過“技術(shù)導(dǎo)師制”培養(yǎng)人才，...

以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝為，吉田半導(dǎo)體打造環(huán)保光刻膠，助力電子產(chǎn)業(yè)低碳轉(zhuǎn)型。面對全球環(huán)保趨勢，吉田半導(dǎo)體推出無鹵無鉛錫膏與焊片，通過歐盟 RoHS 認證，焊接可靠性提升 30%。其 LCD 光刻膠采用低 VOC 配方（<50g/L），符合歐盟 REAC...

制版光刻膠應(yīng)用場景：印刷電路板（FPC）、觸摸屏（TP）的掩膜版制作，以及光學(xué)元件（如衍射光柵）的微納加工。特點：高分辨率與耐化學(xué)性，確保模板的長期使用壽命。 水性光刻膠（JT-1200）應(yīng)用場景：環(huán)保要求高的電子元件（如醫(yī)療設(shè)備、汽車電子）的制造，以及柔...

半導(dǎo)體集成電路 ? 應(yīng)用場景： ? 晶圓制造：正性膠為主（如ArF/EUV膠），實現(xiàn)20nm以下線寬，用于晶體管柵極、接觸孔等精細結(jié)構(gòu)； ? 封裝工藝：負性膠用于凸點（Bump）制造，厚膠（5-50μm）耐...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領(lǐng)域。 厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標準，保質(zhì)期 1 年。需保存在干燥區(qū)域并密封，使用前要閱讀參考技術(shù)資料。適用...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司的產(chǎn)品體系豐富且功能強大。 在光刻膠領(lǐng)域，芯片光刻膠為芯片制造中的精細光刻環(huán)節(jié)提供關(guān)鍵支持，確保芯片線路的精細刻畫； 納米壓印光刻膠適用于微納加工，助力制造超精細的微納結(jié)構(gòu)； LCD 光刻膠則滿足液晶顯示面板生產(chǎn)...

人才與生態(tài)：跨學(xué)科團隊的“青黃不接” 前段人才的結(jié)構(gòu)性短缺 光刻膠研發(fā)需材料化學(xué)、半導(dǎo)體工藝、分析檢測等多領(lǐng)域。國內(nèi)高校相關(guān)專業(yè)畢業(yè)生30%進入光刻膠行業(yè)，且缺乏具有10年以上經(jīng)驗的工程師。日本企業(yè)通過“技術(shù)導(dǎo)師制”培養(yǎng)人才，...

? 正性光刻膠 ? YK-300：適用于半導(dǎo)體制造，具備高分辨率（線寬≤10μm）、耐高溫（250℃）、耐酸堿腐蝕特性，主要用于28nm及以上制程的晶圓制造，適配UV光源（365nm/405nm）。 ? 技術(shù)優(yōu)勢：采用...

工藝流程 ? 目的：去除基板表面油污、顆粒，增強感光膠附著力。 ? 方法： ? 化學(xué)清洗（硫酸/雙氧水、去離子水）； ? 表面處理（硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化，PCB基板...

以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝為，吉田半導(dǎo)體打造環(huán)保光刻膠，助力電子產(chǎn)業(yè)低碳轉(zhuǎn)型。面對全球環(huán)保趨勢，吉田半導(dǎo)體推出無鹵無鉛錫膏與焊片，通過歐盟 RoHS 認證，焊接可靠性提升 30%。其 LCD 光刻膠采用低 VOC 配方（<50g/L），符合歐盟 REAC...