光伏異質結的制造工藝主要包括以下幾個步驟：1.基片制備：選擇合適的基片材料，如硅、鎵砷化鎵等，進行表面處理和清洗，以保證后續(xù)工藝的順利進行。2.沉積薄膜：利用化學氣相沉積、物理的氣相沉積等技術，在基片表面沉積一層或多層薄膜，如n型或p型摻雜層、金屬電極等。3.制造異質結：通過摻雜、擴散、離子注入等方法，在基片表面形成n型和p型半導體材料的異質結。4.退火處理：將制造好的異質結進行高溫退火處理，以提高其電學性能和穩(wěn)定性。5.制造封裝：將制造好的光伏異質結進行封裝，以保護其免受外界環(huán)境的影響，并方便其在實際應用中的使用。以上是光伏異質結的制造工藝的基本步驟，不同的制造工藝可能會有所不同，但總體上都是在這些基本步驟的基礎上進行的。異質結電池采用的N型硅片，摻雜劑為磷，幾乎無光致衰減現(xiàn)象。北京HJT異質結濕法設備

高效異質結電池生產流程中使用的設備，PECVD 1.等離子化學氣相沉積（PlasmaEnhancedCVD，PECVD）是指利用輝光放電的物理作用來化學氣相沉積反應的CVD技術；2.異質結非晶硅薄膜沉積是采用RPECVD技術，射頻等離子體增強化學氣相沉積（RFPlasma-EnhancedChemicalVaporDeposition,RPECVD），是PECVD的另外一種技術。它是利用射頻能量使反應氣體等離子化。優(yōu)點：低溫成膜（300-350℃），對基片影響小，避免了高溫帶來的膜層晶粒粗大；l低壓下形成薄膜厚度及成分較均勻、膜層致密、內應力小，不易產生裂紋；l擴大CVD應用范圍，特別是在不同基片上制備金屬薄膜、非晶態(tài)無機薄膜等，薄膜的附著力大于普通CVD。上海零界高效異質結CVD異質結電池能夠提供更高的能量轉換效率，有助于降低光伏發(fā)電的成本，提高電力系統(tǒng)的經濟性。

HJT電池整線裝備，形成潔凈硅片表面，由于HJT電池中硅片襯底表面直接為異質結界面的一部分，避免不潔凈引進的缺陷和雜質而帶來的結界面處載流子的復合。堿溶液濃度較低時，單晶硅的(100)與(111)晶面的腐蝕速度差別比較明顯，速度的比值被稱為各向異性因子(anisotropicfactorAF)；因此改變堿溶液的濃度及溫度，可以有效地改變AF，使得在不同方向上的速度不同，在硅片表面形成密集分布的“金字塔”結構的減反射絨面；在制絨工序，絨面大小為主要指標，一般可通過添加劑的選擇、工藝配比的變化、工藝溫度及工藝時間等來進行調節(jié)控制。

異質結電池的優(yōu)勢有，優(yōu)勢一：工藝流程短HJT電池主工藝有4道：制絨、非晶硅沉積、TCO沉積、絲網印刷；遠少于PERC（10個）和TOPCON（12-13個）；其中，非晶硅沉積主要使用PECVD方法。TCO薄膜主要有兩種方法：RPD(反應等離子沉積)和PVD。優(yōu)勢二：轉換效率高得益于N型硅襯底以及非晶硅對基底表面缺陷的雙重鈍化作用。目前量產效率普遍已在25%以上；更高的轉化效率需要在前后表面使用摻雜納米晶硅、摻雜微晶硅、摻雜微晶氧化硅、摻雜微晶碳化硅取代現(xiàn)有的摻雜。HJT效率潛力超28%，遠高PERC電池。優(yōu)勢三：無LID&PID，低衰減無LID與PID：由于HJT電池襯底通常為N型單晶硅，而N型單晶硅為磷摻雜，不存在P型晶硅中的硼氧復合、硼鐵復合等，所以HJT電池對于LID效應是免疫的。HJT電池的表面沉積有TCO薄膜，無絕緣層，因此無表面層帶電的機會，從結構上避免PID發(fā)生。低衰減：HJT電池首年衰減1-2%，此后每年衰減0.25%，遠低于PERC電池摻鎵片的衰減情況（首年衰減2%，此后每年衰減0.45%)，因此HJT電池全生命周期每W發(fā)電量高出雙面PERC電池約1.9%-2.9%。光伏異質結技術可以應用于各種類型的太陽能電池，包括晶體硅、薄膜和多結太陽能電池。

異質結HJT電池TCO薄膜的方法主要有兩種：RPD（特指空心陰極離子鍍)和PVD(特指磁控濺射鍍膜)；l該工藝主要是在電池正背面上沉積一層透明導電膜層，通過該層薄膜實現(xiàn)導電、減反射、保護非晶硅薄膜的作用，同時可以有效地增加載流子的收集；l目前常用于HJT電池TCO薄膜為In2O3系列，如ITO（錫摻雜In2O3，@PVD濺射法）、IWO（鎢摻雜In2O3，@RPD方法沉積）等。HJT電池具備光電轉化效率提升潛力高、更大的降成本空間。零界高效異質結電池整線解決方案，實現(xiàn)設備國產化，高效高產PVD DD CVD。異質結電池是光伏行業(yè)的新興技術，其轉換效率高，能夠顯著提升太陽能電池的整體性能。上海零界高效異質結CVD

光伏異質結電池的使用壽命長，具有長期穩(wěn)定的能源供應能力。北京HJT異質結濕法設備

質結電池TCO薄膜的方法主要有兩種：RPD（特指空心陰極離子鍍)和PVD(特指磁控濺射鍍膜)；l該工藝主要是在電池正背面上沉積一層透明導電膜層，通過該層薄膜實現(xiàn)導電、減反射、保護非晶硅薄膜的作用，同時可以有效地增加載流子的收集；l目前常用于HJT電池TCO薄膜為In2O3系列，如ITO（錫摻雜In2O3，@PVD濺射法）、IWO（鎢摻雜In2O3，@RPD方法沉積）等。HJT電池具備光電轉化效率提升潛力高、更大的降成本空間。零界高效異質結電池整線解決方案，實現(xiàn)設備國產化，高效高產PVD DD CVD。北京HJT異質結濕法設備