光掩膜上游主要包括圖形設計、光掩膜設備及材料行業(yè)，下游主要包括IC制造、IC封裝、平面顯示和印制線路板等行業(yè)，應用于主流消費電子 （手機、平板、可穿戴設備）、筆記本電腦、車載電子、網(wǎng)絡通信、家用電器、LED 照明、物聯(lián)網(wǎng)、醫(yī)療電子等終端產(chǎn)品。 目前全球范圍內(nèi)光刻掩膜版主要以專業(yè)生產(chǎn)商為主。由于下游應用領域廠商自建光刻掩膜版生產(chǎn)線的投入產(chǎn)出比很低，且光刻掩膜版行業(yè)具有一定的技術壁壘，所以光刻掩膜版都是由專業(yè)的生產(chǎn)商進行生產(chǎn)。 廣西廠家掩膜版性價比高

掩膜版的種類 透明基板 1、透明玻璃 。石英玻璃（Quartz Glass）蘇打玻璃（Soda-lime Glass）低膨脹玻璃（Low Expansion Glass） 2、透明樹脂 遮光膜 （1）硬質(zhì)遮光膜：鉻膜氧化鐵硅化鉬硅。 （2）乳膠。 掩膜版的制作方法 濺鍍法（Sputtering）： （1）上平行板：裝載濺鍍金屬的靶材； 下平行板：作為濺鍍對象的玻璃基板。 （2）將氬氣（Ar 2 ）通入反應艙中形成等離子體； 氬離子（Ar + ）在電場中被加速后沖撞靶材； 受沖擊的靶材原子會沉積在玻璃基板上從而形成薄膜。寧夏優(yōu)良掩膜版值得信賴

光掩膜除了應用于芯片制造外，還***的應用與像LCD，PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。主要分兩個組成部分，基板和不透光材料?；逋ǔＪ歉呒兌?，低反射率，低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍在玻璃下方厚約0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。應用于芯片制造的光掩膜為高敏感度的鉻版。干版涂附的乳膠，硬度小且易吸附灰塵，不過干版還有包膜和超微顆粒干版，其中后者可以應用于芯片制造。(順便提一下，通常講的菲林即film，底片或膠片的意思，感光為微小晶體顆粒)。

掩膜版，又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下***業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉移用的高精密工具，是承載圖形設計和工藝技術等知識產(chǎn)權信息的載體。通俗點理解，掩膜版的功能類似于傳統(tǒng)照相機的“底片”。 掩膜版主要用于下游電子元器件制造業(yè)的批量生產(chǎn)，是下***業(yè)生產(chǎn)流程銜接的關鍵部分，是下游產(chǎn)品精度和質(zhì)量的決定因素之一。 公司根據(jù)客戶所需要的圖形，用光刻機在原材料上光刻出相應的圖形，將不需要的金屬層和膠層洗去，即得到掩膜版產(chǎn)成品。

掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細光掩膜圖形的感光空白板。通過光刻制版工藝，將微米級和納米級的精細圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。 掩膜版對下***業(yè)生產(chǎn)線的作用主要體現(xiàn)為利用掩膜版上已設計好的圖案，通過透光與非透光的方式進行圖像（電路圖形）復制，從而實現(xiàn)批量生產(chǎn)。 公司生產(chǎn)的掩膜版產(chǎn)品根據(jù)基板材質(zhì)的不同主要可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）等。 產(chǎn)品主要應用于平板顯示、半導體芯片、觸控、電路板等行業(yè)，是下***業(yè)產(chǎn)品制程中的關鍵工具。廣東**掩膜版值得信賴

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光學掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構。掩膜版應用十分***，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統(tǒng)）等. 光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過曝光過程將圖形信息轉移到產(chǎn)品基片上。廣西廠家掩膜版性價比高

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