在organ芯片研究中，模擬人體organ微環(huán)境需要微米級精度的三維結構。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術，幫助科研團隊在 PDMS 材料上構建出仿生血管網絡與組織界面。某再生醫(yī)學實驗室使用 Polos 光刻機，成功制備出肝芯片微通道，其內皮細胞黏附率較傳統(tǒng)方法提升 40%，且可通過軟件實時調整通道曲率，precise模擬肝臟血流動力學。該技術縮短了organ芯片的研發(fā)周期，為藥物肝毒性測試提供了更真實的體外模型，相關成果入選《自然?生物技術》年度創(chuàng)新技術案例。柔性電子：曲面 OLED 驅動電路漏電降 70%，彎曲半徑達 1mm，適配可穿戴設備。陜西桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長

某基因treatment團隊采用 Polos 光刻機開發(fā)了微米級 DNA 遞送載體。通過 STL 模型直接導入，在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窩狀微孔結構，載體的 DNA 負載量達 200μg/mg，較傳統(tǒng)電穿孔法提升 5 倍。動物實驗顯示，該載體在肝臟靶向遞送中，基因轉染效率達 65%，且免疫原性降低 70%。其無掩模特性支持根據不同細胞表面受體定制載體形貌，在 CAR-T 細胞treatment中，CAR 基因導入效率從 30% 提升至 75%，相關技術已申請國際patent。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。上海POLOSBEAM-XL光刻機讓你隨意進行納米圖案化納 / 微機械：亞微米級結構加工，微型齒輪精度達 ±50nm，推動微機電系統(tǒng)創(chuàng)新。

Polos-BESM在電子器件原型開發(fā)中展現高效性。例如，其軟件支持GDS文件直接導入，多層曝光疊加功能簡化了射頻器件（如IDC電容器）的制造流程。研究團隊利用同類設備成功制備了高頻電路元件，驗證了其在5G通信和物聯(lián)網硬件中的潛力。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢。

在航空航天科研中，某科研團隊致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測和偵察的微型飛行器。其中，制造輕量化且高性能的微機械部件是關鍵。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術，助力團隊制造出尺寸precise、質量輕盈的微型齒輪、機翼骨架等微機械結構。例如，利用該光刻機制造的微型齒輪，齒距精度達到納米級別，極大提高了飛行器動力傳輸系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性。基于此，科研團隊成功試飛了一款新型微型飛行器，其續(xù)航時間和飛行靈活性遠超同類產品，為未來微型飛行器在復雜環(huán)境下的應用奠定了堅實基礎。微流體3D成型：復雜流道快速曝光，助力tumor篩查芯片與藥物遞送系統(tǒng)研發(fā)。

超表面通過納米結構調控光場，傳統(tǒng)電子束光刻成本高昂且效率低下。Polos 光刻機的激光直寫技術在石英基底上實現了亞波長量級的圖案曝光，將超表面器件制備成本降低至傳統(tǒng)方法的 1/5。某光子學實驗室利用該設備，研制出寬帶消色差超表面透鏡，在 400-1000nm 波長范圍內成像誤差小于 5μm。其靈活的圖案編輯功能還支持實時優(yōu)化結構參數，使器件研發(fā)周期從數周縮短至 24 小時，推動超表面技術從理論走向集成光學應用。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。技術Benchmark：Polos-μPrinter 入選《半導體技術》年度創(chuàng)新產品，推動無掩模光刻技術普及。陜西桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長

亞微米級精度：0.8 μmmost小線寬，支持高精度微流體芯片與MEMS器件制造。陜西桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長

無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。陜西桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長